SKハイニックスは今年、日本のキヤノンからナノインプリント露光装置を導入し、テストを進めている。2025年ごろに同装置を使い、3D(3次元)NAND型フラッシュメモリーの量産を開始することを目標に研究開発を進めており、これまでのテスト結果が順調であるため、量産用設備も追加発注される見通しだ。

半導体業界によると、SKハイニックスは今年、キヤノンからナノインプリント露光装置のテスト装備を購入し、3D NAND型フラッシュメモリーの生産工程に適用するためのテストを進めている。業界で最先端製造プロセスに使用されている極端紫外線(EUV)露光装置の次世代設備とされ、これまでは研究開発レベルでの採用にとどまっていた。

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朝鮮日報日本語版 2023/05/05 08:40
https://www.chosunonline.com/site/data/html_dir/2023/05/05/2023050580017.html